今日获悉，第四届武汉设计双年展将于2017年11月11日到11月24日在武汉举行。本届武汉设计双年展主题为“设计明天”，旨在展示各门类设计的相互融合，创意设计活动与城市文化、经济、社会、生活、环境的相互渗透，提升城市生活新品质，培育城市新生代，让老城市不断焕发出新活力。 

武汉成功申报“设计之都”暨第四届武汉设计双年展新闻发布会在汉召开

据悉，本届双年展由设计展、论坛活动和综合活动三个部分组成，所有活动使用双年展的统一视觉识别（VI）体系。其中设计展是武汉设计双年展的核心，将使用虚拟现实技术（VR）、多媒体艺术、动漫游戏、服装展览、图纸、模型、影像、绘画等多种方式，展现设计与城市的相互交融。同时，还将组织30场展览，主要包括“设计之都”城市作品展:“长江主轴专题展”、“百年亮点”长江主轴优秀摄影作品展、“童画长江主轴”展、武汉工程设计“一带一路”摄影展等。

此外，还将同步开展系列论坛活动，为各设计单位、高等院校和各相关企业搭建学术交流平台，让跨地区、跨文化的设计业者交流观点，碰撞智慧。

据相关负责人介绍，较之以往，本届双年展突出体现三大特点：

一是从单一走向全面。本届双年展将突出展示和宣传武汉的“大设计”体系，实现主体多元化，吸引更多设计主体及门类参与。将首次实现多种计门类的集中展示，武汉的工程设计、历史建筑、工业设计、动漫设计、服装设计、摄影作品、美术家作品、大学生设计作品、青少年儿童设计作品将联袂展出。

二是从武汉走向全球。本届双年展将更加开放化、国际化，邀请了全球“设计之都”网络城市及国内众多城市参展，举办国际、国内高峰论坛，加强武汉与国际城市、国内其他城市的交流沟通。展会国际化更加突出，引入了荷兰滨水邀请展，法国圣埃蒂安设计展、佛罗伦萨设计周获奖作品展——全国巡展武汉站，中国设计红星奖展。

三是从政府走向民间。本届双年展还将逐步探索构建“政府+社会”共同办展的活动模式，丰富展会内容，进一步挖掘双年展的可持续发展路径，扩大影响力。将首次利用“武汉设计之都”自媒体矩阵宣传双年展活动，通过多种自媒体平台多角度讲述武汉设计故事，与广大市民展开深入互动，分享设计理念。

据悉，首届双年展于2011年11月举行，截止目前已连续举办了三届。本次双年展开幕式将于2017年11月11日上午10点在南太子湖创新谷美术馆展区举行。